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靶基距对基片上在靶宽度方向（载 方向）上的膜厚均匀性有很大影

响。图员猿鄄缘 给出了图员猿鄄源 所示的矩形靶结构在不同靶基距情况下，岳阳多弧离子镀膜机，沿

载方向（即靶的宽度方向）膜厚的相对分布。从图中可以看出，当靶基距

较小，如 澡 越圆缘 皂皂 时，多弧离子镀膜机订做，薄膜厚的位置大约在跑道上方，均匀性很差。

随着靶基距的增加，由于积分的效应，基片上不同点的膜厚差值变小，

均匀性逐渐变好。

图源鄄远为拨杆传动工件架的示意图。如果在真空室底板或真空室下

部的空间无法安排传动机构，而在真空室的**部有可能安排时，多弧离子镀膜机报价，这种结

构可将电机置于真空室的**部。其特点是结构简单，加工方便，制造成

本不高。

除上述四种工件架的传动方式外，根据基片形状，镀膜机工件

架的传动结构还可以采用链式传动形式。这几种工件架传动结构的

设计计算都是机械设计的常规计算，在有关的机械设计书籍中都可

以查到。