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靶的优化设计主要有靶结构尺寸优化、磁场优化、减小边缘效应

影响。

员猿郾 圆郾 圆郾 员摇 矩形靶的尺寸设计

从理论上讲，旧真空镀膜机，磁控溅射靶是一个线源。所以，如果靶的长度与宽度的

比例越大，其溅射均匀区越长。可是，由于靶的溅射轨迹必须是一个封闭

的曲线，不可能是一根直线，所以，矩形靶的端部效应是不可能避免的。

考虑到靶端部边缘效应（“回形”）区域的溅射率低，所以靶的有效溅

射长度一定要大于基片镀膜区域长度。另外，由于靶越宽，其端部“回形”

区域越大（见图员猿鄄怨）。在达到一定的均匀性前提下，靶的设计长度将会

随着靶的宽度发生变化。狭窄的靶有较小的端部“回形”区域和比较长的

线性均匀溅射区域，贵州真空镀膜机，所以，靶越宽，其设计的靶总长度应越大。

（员）根据所设计的溅射系统结构形式（矩形平面靶、圆形平面靶、

圆柱形磁控靶及其基片的相对运动等），选择不同的数学物理模型和相

应的计算程序。

（圆）根据初步计算结果，920真空镀膜机，设计靶的各部结构尺寸。

（猿）根据所选模型和计算程序，模拟计算系统的电磁场分布、靶基

距、基片沉积膜厚等参数；采用数值模拟的方法，数控真空镀膜机，利用蒙特卡罗方法跟

踪单个粒子的运动轨迹，以靶表面电子浓度仿真模拟靶面沟道的刻蚀

轮廓。

（源）根据仿真模拟计算结果（膜厚均匀性等）来确定该设计结构的

合理性。若模拟结果合理，则作为终设计；反之则修改相应的结构参

数并重复以上过程。